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CVD金刚石膜应力产生的机理及其抑制和应用的研究
目录
内容概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
1.2金刚石薄膜概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
1.2.1金刚石薄膜的定义与分类．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
1.2.2金刚石薄膜的制备方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
1.3金刚石薄膜应力问题研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
1.4本文研究内容与目标．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
CVD金刚石膜应力产生的机理分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
2.1金刚石薄膜生长过程应力形成原因．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12
2.1.1晶体生长模式的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
2.1.2扩散过程的作用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15
2.2化学气相沉积过程中的应力来源．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
2.2.1沉积气氛成分的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17
2.2.2沉积温度与压力的作用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19
2.3材料结构与性能对应力的作用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19
2.3.1拓扑结构缺陷的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21
2.3.2化学键合状态的作用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
2.4应力类型与分布特征．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24
2.4.1表面应力与体应力．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
2.4.2应力梯度与应力集中．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
CVD金刚石膜应力抑制方法研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
3.1制备工艺优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
3.1.1沉积参数的调控．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
3.1.2沉积气氛的改进．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
3.2后处理技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
3.2.1热处理方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
3.2.2机械抛光与研磨．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35
3.3材料改性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35
3.3.1掺杂元素的引入．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39
3.3.2表面涂层技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40
3.4应力释放机制研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42
3.4.1微裂纹的形成与扩展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43
3.4.2应力松弛现象．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45
CVD金刚石膜应力调控应用研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．46
4.1微电子机械系统中的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．48
4.1.1应力调控对器件性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．49
4.1.2应力工程在MEMS中的应用实例．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．51
4.2超硬刀具材料中的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52
4.2.1
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