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分离工程_华东理工大学中国大学mooc章节课后测试答案期末考试题库2024年

液液平衡相图中，既可以用质量分数形式表示各组分的组成，也可以摩尔分数的形式表示组成。

答案:正确

化学吸收中β的物理意义是在相同扩散系数下的【图片】。

答案:正确

多组份精馏和吸收过程都是双向传质过程，规定分离要求时多组份精馏过程最多只能指定2个关键组份，多组份吸收过程只能有1个关键组份。

答案:错误

固膜分离过程中，流体在进料侧膜面上的流速和穿越膜的流速有数量级的差异。为减轻膜分离过程中的浓差极化，固膜分离一般是以错流方式进行操作的。

答案:正确

管式膜组件比中空纤维膜组件抗污染能力更强，但成本较高。

答案:正确

窄沸程混合物的绝热闪蒸计算，汽化分率e放在内层迭代，温度T放在外层迭代。

答案:错误

汽相两相共存的混合物，应该满足【图片】和【图片】。

答案:正确

露点方程的形式可以是：【图片】

答案:错误

泡点计算的目标函数可以是：【图片】的形式。

答案:正确

汽液相平衡是精馏过程分析计算的基础。相平衡的条件是汽、液两相的压力、温度相等，各组分在两相间分逸度分别相等。?

答案:正确

膜分离技术和高性能膜材料的研制，是新分离技术的一个重要发展方向。

答案:正确

传统工艺的烧酒制备是单级蒸馏过程，与带回流的多级精馏相比，分离效率不高。

答案:错误

分离单元操作的概念，最早是在W.K.刘易斯和W.H.麦克亚当斯的《化工原理》中确立的。

答案:错误

萃取精馏溶剂选择的方法主要包括？

答案:尤厄尔液体分类法_从分子结构相似的概念选择_从极性相似的概念选择_从同系物中选择

对色谱柱洗脱下来的蛋白质收集液进行脱盐处理，从机理上，哪些分离过程可行？

答案:超滤_电渗析_渗析

?现在工业实用中的反渗透膜，其微观结构是以下哪些种类？?

答案:不对称膜_复合膜

精馏塔在全回流操作时，下列哪些是正确描述？

答案:不出产品_所需理论板数最小_不进料

?以下分离过程中，哪些使用了质量分离剂？

答案:回流气提_萃取精馏_吸附_再沸吸收

转盘塔设计时，以上哪一项计算中，要用到Logsdail关联式？

答案:塔径

实验室中应用Oldshaw玻璃筛板塔测得的板效率与工业规模大塔的效率间存在如下关系：

答案:在泛点百分率相当条件下与大塔点效率相当

化学吸收的气膜传质总系数和物理吸收的气膜传质总系数的比值是：

答案:大于1

在同一蒸馏区域中，剩余曲线簇有_____个稳定节点和_____个不稳定节点。

答案:1、1

加盐精馏的原理与哪种特殊精馏最为类似？

答案:萃取精馏

对一轻烃混合物的精馏分离进行简捷计算，已求得：最小回流比Rm=1.5，最小理论板数Nm=8.6。取实际回流比为R=1.2Rm，通过计算判断，所需理论板数最接近以下哪一项？Gilliland关联式为【图片】

答案:20

在脱丁烷塔中分离多烃混合物，进料、塔顶产物的组成和各组分的挥发度如下：【图片】丁烷(组分3)为轻关键组分，异戊烷(组分4)为重关键组分。泡点进料（q=1）。Underwood方程如下：【图片】通过计算确定：最小回流比Rm最接近哪一选项？θ建议在θ=1.105-1.106之间试差求得。

答案:1.486

料液中含有四个组分，K1＝1.54、K2＝1.05、K3＝0.70、K4＝0.43普通精馏分离时，规定组分2,3是关键组分。当用Underwood方程计算最小回流比Rm时，其参数θ应界于之间。

答案:1.0与1.5

MESH方程组流率加和算法中，内层迭代中解三对角线矩阵（M＋E方程）计算【图片】，再用S方程计算；而后，通过总物料衡算计算各级汽相总流率，并求解汽、液摩尔分率的新值。外层迭代中，利用热量衡算H方程，通过Newton-Raphsoon迭代计算。

答案:液相总流率，各级温度

对于多级精馏的严格计算，哪些说法是错误的？

答案:全变量迭代算法中，必须按照Naphtali-Sandholm建议的方式，对迭代变量和剩余函数进行排列

下列哪一个过程不是闪蒸分离过程。

答案:纯组分的蒸发

膜分离过程中，浓差极化有时是有利的。

答案:错误

对于超滤等膜分离过程，可以用截留率表征其分离效率。

答案:正确

现在工业实用中的反渗透膜，其微观结构是以下哪些种类？

答案:不对称膜_复合膜

海水中溶质以NaCl为主，料为NaCl浓度为35g/L时，操作压力差至少大于MPa，反渗透制备淡水过程才能进行（操作温度按常温298K计）。【图片】

答案:3.0

以下哪些是过滤式的膜分离过程？

答案:微滤

大型的工业化萃取塔，有时60%~80%的塔高是用来弥补轴向返混的不利影响。

答案:正确

M-V近似解法求解扩散模型时，将轴向混合的影响归类到传质单元高度的变化上，表观传质单元高度分为“真实”传质高度和分散单元高度两部分。