第十讲新型非金属材料.pptVIP

5.5光导纤维5.5.3石英光纤材料及制备MCVD法工艺第31页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.5光导纤维5.5.3石英光纤材料及制备（2）OVD法(外部气相沉积法)将SiCl4等喷射人氢氧焰中，加水进行分解反应。形成的氧化物微粉沉积在耐高温的中心材料周围。用这种方法可以获得类似于粉笔的多孔性玻璃体，然后再取出中心棒材加热，便可得到适明的母体材料。它的折射率分布也是通过控制每一玻璃层中GeO2等添加量来调节的。

SiCl4+2H2O→SiO2+4HCl第32页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.5光导纤维5.5.3石英光纤材料及制备OVD法工艺第33页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.5光导纤维5.5.3石英光纤材料及制备（3）VAD法(垂直轴向气相沉积)沿轴向沉积的。它与气相外延沉积法的相同点是，都是用氢氧焰获得氧化物粉末，再将这些粉末用氢氧焰从石英玻璃棒下端表面喷吹沉积而获得多孔的玻璃母体。通过安装在其上方的电路加热到1500℃，便得到透明的玻璃母体。母体材料在石墨电阻炉内加热到2100℃后软化，由拉丝装置进行拉丝，可形成外径约125p航的光纤。SiCl4+2H2O→SiO2+4HCl第34页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.5光导纤维5.5.3石英光纤材料及制备VAD法工艺第35页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.5光导纤维5.5.3石英光纤材料及制备2.拉丝第36页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.5光导纤维5.5.3石英光纤材料及制备其一端加工成圆锥形并接上一小段石英棒的预制棒固定于预制棒馈入器上，当锥形端馈入至温度约2200oC的拉丝炉中一定时间后，一个溶化的垂体形成并下落，随着下落，一根细的光纤就形成了。2.拉丝2000℃左右加热熔化预型件拉丝过程最重要的是控制纤维直径的恒定。为此必须严格稳定炉温和控制气氛的变化第37页，共52页，星期日，2025年，2月5日第十讲新型非金属材料第1页，共52页，星期日，2025年，2月5日主要内容：5.1半导体材料5.2特种陶瓷5.3敏感材料5.4激光材料5.5光导纤维5.6超导材料第2页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.2特种陶瓷5.2.2制造工艺③冷等静压成型单向加压成型因压力不均匀而使坯体易变形，难以保证质量。各向等压成型是一种均匀加压法。先在300MPa压力下预成型，然后在薄膜袋中，用水、甘油为介质，在50MPa一400Mpa压力下成型。（2）成型制备技术④热压铸成型将原料粉末与粘结剂(如石蜡)混合，调制成塑性瓷科，用注射成型机把此料于130℃～300℃温度注射入金属模内，形成瓷坯。⑤注浆成型将原料粉末、水(或甘油、酒精等)分散悬浮刑、粘结剂、除气剂等制成一定浓度的料浆，注入石膏模内，经一定时向后形成注件，在室温下干燥。第3页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.2特种陶瓷5.2.2制造工艺（3）烧结目的：增加致密度、机械强度、减少气孔等。烧结是吉布斯函数降低的过程。其动力来自粉末颗粒内外表面能的降低和晶格畸变能的降低。能否进行烧结的热力学条件取决于晶界能与表面能之比。热压烧结反应热压烧结热等静压烧结反应烧结法CVD法第4页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.2特种陶瓷5.2.2制造工艺（3）烧结方法热压烧结:已用于A12O3：陶瓷车刀的制备，在CaF2、PZT、Si3N4等材料生产中也有广泛应用。粉体置于压模中，从上到下用10～50MPa的压力，边单轴加压边加热到高温的烧结方法称热压烧结法。常用的模具材料有石墨、氧化铝和碳化硅等，石墨可承受70MPa压力，1500一2000℃高温，A12O3模可承受200MPa压力。第5页，共52页，星期日，2025年，2月5日5.2特种陶瓷5.2.2制造工艺（3）烧结方法反应热压烧结:①相变热压烧结氧化锆在相变温度(800一1200℃)和0.3MPa压力下，进行热压烧结可以在比正常烧结温度低的情况下，几十分钟内烧结出高稳定性、高强度、高透明度的细晶陶瓷。在热压铸过程中同时伴随化学反应过程。②分解热压烧结含氢氧化物或水合物氧化物原料，在高温过程中发生脱水或释气分解，此时施加合适的机械力进行热压烧结，则可在较低温度、压力和短时间内获得高密度、高强度的优质陶瓷。例如用镁或铝的氢氧化物(或硫酸盐)来烧制氧化镁、氧化铝陶瓷，温度在900一1200℃，