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光刻机运动控制平台精度提升策略与实践研究
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今数字化时代,芯片作为电子设备的核心部件,其性能直接决定了电子设备的功能与效率。从智能手机到超级计算机,从物联网设备到人工智能系统,芯片无处不在,推动着信息技术的飞速发展。而光刻机,作为芯片制造的核心设备,被誉为半导体产业皇冠上的明珠,在整个芯片制造流程中占据着不可替代的关键地位。
光刻技术是芯片制造的核心工艺,其原理是通过光学、化学与机械技术的结合,将设计好的电路图案精确转移到硅片上,从而制造出具有特定功能的集成电路。在这一过程中,光刻机承担着将掩模版上的精细电路图案投影到硅片上的重任,其精度和稳定性直接决定了
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