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磁控溅射法制备铌镁酸铋薄膜及其性能的多维度探究
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今科技飞速发展的时代,电子器件正朝着高性能、微型化和集成化的方向迅猛迈进,这一趋势对材料的性能提出了极为严苛的要求。高性能的材料不仅能够提升电子器件的运行速度和稳定性,还能有效降低其功耗和尺寸,从而满足现代社会对电子设备便携性和多功能性的追求。例如,在智能手机领域,随着用户对手机拍照、游戏、5G通信等功能需求的不断提高,手机内部的芯片、传感器等电子器件需要具备更高的性能和更小的尺寸,这就依赖于高性能材料的支持。
在众多材料中,铌镁酸铋(BMN)薄膜因其独特的物理性质,在微波调谐器件、多层电容器和集成设备等领
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