双有源层薄膜晶体管的制备及其界面修饰的研究.docxVIP

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2025-07-16 发布于北京
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双有源层薄膜晶体管的制备及其界面修饰的研究.docx

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双有源层薄膜晶体管的制备及其界面修饰的研究

一、引言

随着信息技术的飞速发展，薄膜晶体管（TFT）作为现代电子显示技术中的关键元件，其性能的优劣直接关系到显示设备的质量和可靠性。近年来，双有源层薄膜晶体管（DualActive-LayerTFTs）以其卓越的稳定性和高性能成为研究热点。本文旨在研究双有源层薄膜晶体管的制备过程以及界面修饰的改进策略，以期为该领域的研究和应用提供理论支持。

二、双有源层薄膜晶体管的制备

1.材料选择与准备

双有源层薄膜晶体管的制备首先需要选择合适的材料。通常，选用具有良好导电性能和稳定性的材料作为有源层，如非晶硅、氧化物半导体等。此外，还需准备绝缘层、栅极、