光学浮区法晶体生长温度场数值模拟：理论、实践与应用.docx

光学浮区法晶体生长温度场数值模拟：理论、实践与应用

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学领域，晶体材料因其独特的物理性质和广泛的应用前景，一直是研究的热点。从半导体材料用于集成电路制造，到光学晶体在激光技术、光通信中的应用，晶体材料的性能和质量直接影响着相关技术的发展水平。光学浮区法作为一种先进的晶体生长技术，在现代晶体材料制备中占据着重要地位。

光学浮区法的历史可以追溯到20世纪中期，随着材料科学对高纯度、高质量晶体需求的不断增加，该方法逐渐发展成熟。其基本原理是利用聚焦的光束（如激光）将多晶原料棒的局部加热至熔化状态，形成一个狭窄的熔区，依靠表面张力维持熔区的形状。通过移动加热