有机化学第七章芳香烃08课件.ppt

例如:-NO2、-COOH、-SO3H、-CHO等.这些取代基与苯环直接相连的原子上，一般具有重键或带正电荷.它具有吸电子效应,它使苯环的电子云密度下降,从而增加了中间碳正离子生成时的正电荷.这类取代基使第二个取代基主要进入它们的间位，即它们具有间位定位效应，而且反应比苯困难些，也就是它们能使苯环钝化.(2)间位定位基——第二类定位基特点:-NO2-SO3H-CHO-COOH间位定位基定位能力由强到弱的顺序:苯环上有两个取代基时,第三个取代基进入的位置,则由原有两个取代基来决定.一般可能有以下几种情况:(1)两个取代基的定位效应一致时,第三个取代基进入位置由上述取代基的定位规则来决定:CH3NO2SO3HNO2OHNO2(空间位阻)CH3CH3三、苯的二元取代产物的定位规律例如:1.邻对位定位基定位能力由强到弱的顺序:-NH2-OH-OR-R-Ph-X2.间位定位基定位能力由强到弱的顺序-NO2-SO3H-CHO-COOH(2)两个取代基的定位效应不一致时,第三个取代基进入的主要位置由定位效应强的取代基所决定:-OH-CH3-NH2-Cl-NO2-COOH(邻对位定位基)(邻对位定位基)(间位定位基)NH2ClOHCH3OHCH3COOHNO21.邻对位定位基定位能力由强到弱的顺序:-NH2-OH-OR-R-Ph-X2.间位定位基定位能力由强到弱的顺序-NO2-SO3H-CHO-COOH(3)当两个取代基属于不同类型时,第三个取代基进入的位置由邻对位定位基决定(因为邻、对位基反应的速度大于间位基).1.邻对位定位基定位能力由强到弱的顺序:-NH2-OH-OR-R-Ph-X2.间位定位基定位能力由强到弱的顺序-NO2-SO3H-CHO-COOH1、预测主要产物四、定位规则在有机合成上的应用1.邻对位定位基定位能力由强到弱的顺序:-NH2-OH-OR-R-Ph-X2.间位定位基定位能力由强到弱的顺序-NO2-SO3H-CHO-COOHOHCH3OHCH32、选择合理的合成路线一般不先硝化,因为硝化后使苯环钝化,反应不易,产率低.芳烃较稳定,只有在特殊条件下才发生加成反应六氯化苯简称六六六,其?异构体具有杀虫活性,占化合物的18%.6.5.2加成反应(1)加氢(2)加氯(在紫外线照射下)常见的氧化剂:高锰酸钾,重铬酸钾加硫酸,稀硝酸等,只使侧链发生氧化:6.5.3芳烃侧链反应?(1)氧化反应?苯甲酸150~160℃，1~1.5MPa稀对苯二甲酸在过量氧化剂存在下,无论支链长短,最后都氧化成苯甲酸(说明???的活泼性):注意：叔丁基苯由于无???，在一般情况下不氧化，但在强烈条件下，环破裂.?均有???,直接氧化到苯甲酸MnO4-/H2O?鉴别：1、苯和甲苯2、环己烯、环己烷、甲苯苯在特殊条件下才发生氧化使苯环破裂,例如:顺丁烯二酸酐—比较两种反应的条件CH3CH2ClCl2日光或热CHCl2CCl3Cl2日光或热Cl2日光或热苯环上H的取代(离子型):CH3+Cl2CH3CH3ClClFe或FeCl3+邻位对位+2HCl(2)氯化反应?苯环侧链上的??H取代，自由基型取代反应:[问]为什么在高温或光照下,主要生成苯一氯甲烷?自由基型取代反应，生成的苄基自由基比较稳定.CH2?苄基自由基亚甲基p轨道的离域需要引发剂(3)溴化反应NBS/CCl4引发剂NBS/CCl4引发剂NBS/CCl4引发剂5稠环芳烃§7.6稠环芳烃两个或两个以上的苯环共用两个邻位C原子，稠合而成的化合物。萘蒽菲萘naphthalene蒽anthracene菲phenanthrene12345678910一、萘（一）萘的结构140pm136pm139pm142pm萘的结构与苯类似,是一平面状分子每个碳原子采取sp2杂化.10个碳原子处于同一平面,联接成两个稠合的六元环8个氢原子也处于同一平面萘的分子式C10H8,是最简单的稠环芳烃.萘是煤焦油中含量最多的化合物,约6%.每个碳