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我国半导体材料国产化率提升的关键环节与技术突破报告.docx

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    我国半导体材料国产化率提升的关键环节与技术突破报告模板

    一、我国半导体材料国产化率提升的关键环节与技术突破

    1.1关键环节分析

    1.1.1原材料供应

    1.1.2制造工艺

    1.1.3产业链协同

    1.2技术突破分析

    1.2.1高性能半导体材料研发

    1.2.2先进制造工艺研发

    1.2.3产业链协同创新

    二、关键原材料国产化进程及挑战

    2.1硅材料国产化

    2.2硼材料国产化

    2.3砷材料国产化

    2.4磷材料国产化

    2.5稀有金属材料国产化

    三、半导体制造工艺技术突破与创新

    3.1光刻技术

    3.2蚀刻技术

    3.3清洗技术

    3.3.1清洗剂研发

    3.3.2清洗工艺优化

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