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面向2025的半导体设备研发：技术路线选择与产业协同效应深化.docx

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    面向2025的半导体设备研发：技术路线选择与产业协同效应深化

    一、面向2025的半导体设备研发：技术路线选择与产业协同效应深化

    1.1技术路线选择

    1.1.1技术创新

    1.1.2产业链协同

    1.1.3人才培养

    1.2产业协同效应深化

    1.2.1政策支持

    1.2.2区域协同

    1.2.3国际合作

    1.3技术创新与产业协同的相互作用

    2.半导体设备关键技术研发趋势

    2.1光刻技术：引领半导体产业变革的核心

    2.1.1极紫外光（EUV）光刻技术的应用

    2.1.2多波段光刻技术的探索

    2.1.3纳米压印技术的应用

    2.2沉积与蚀刻技术：半导体制造过程中的关键环节

    2.2.1

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