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集成电路制造技术—原理与工艺（第3版）：光刻工艺PPT教学课件.pptx

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    8.1概述光刻(photolithography)是将掩模版（光刻版）上的几何图形转移到覆盖在硅衬底表面对光辐照敏感的光刻胶上的工艺。光刻技术发展Si光刻胶光刻掩模光源投影透镜Lmin光刻通常是用最小线条宽度来表征其发展水平，称为特征线宽（criticaldimension,CD）

    8.1概述光刻分辨率分辨率（res

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