Al_(2)O_(3)层厚度对PbZrO_(3)_Al_(2)O_(3)异质结薄膜储能性能的影响.pdfVIP

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第46卷第1期沈阳工业大学学报Vol46No1

2024年1月JournalofShenyangUniversityofTechnologyJan2024

檪檪檪檪檪檪檪殏

殏DOI:10.7688/j.issn.1000-1646.2024.01.13

材料科学与工程

殏檪檪檪檪檪檪檪

AlO层厚度对PbZrO/AlO异质结薄膜

23323

储能性能的影响

王占杰,于海义,邵岩,王子权,白宇

(沈阳工业大学材料科学与工程学院,辽宁沈阳110870)

摘要:为了提高Pt/PbZrO/Pt电介质电容器的储能密度,通过热蒸镀和自然氧化方法在Pt/Ti/

SiO/Si基板上沉积了厚度为0~10nm的AlO(AO)层,采用化学溶液沉积法制备PbZrO薄膜,研

2233

究了AlO层厚度对PbZrO/AlO(PZO/AO)异质结薄膜储能性能的影响。结果表明:随着AO层

23323

厚度的增加,PZO/AO异质结薄膜的击穿电场强度逐渐增大,极化电场电滞回线由反铁电特征转变

为铁电特征。当PZO/AO异质结薄膜的AO层厚度为5nm时,储能密度最大值为212J/cm。

关键词:电介质电容器;PbZrO薄膜;AlO插层;铁电;反铁电;储能性能;热蒸镀;化学

323

溶液沉积法

中图分类号:TB34文献标志码:A文章编号:1000-1646(2024)01-0072-05

EffectofAlOlayerthicknessonenergystorageperformancesof

23

PbZrO/AlOheterostructurethinfilms

323

WANGZhanjie,YUHaiyi,SHAOYan,WANGZiquan,BAIYu

(SchoolofMaterialsScienceandEngineering,ShenyangUniversityofTechnology,Shenyang110870,Liaoning,China)

Abstract:InordertoimprovetheenergystoragedensityofPt/PbZrO/Ptdielectriccapacitors,PbZrO/

33

AlOheterostructurethinfilmswerepreparedonthePt/Ti/SiO/Sisubstrate,wheretheAlOlayerswith

23223

athicknessfrom0nmto10nmweredepositedbythermale

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