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磁控溅射镀膜技术的发展
一、概述
磁控溅射镀膜技术，作为一种先进的表面处理技术，自其诞生以
来，在料科学、电子工业、光学仪器、航空航天等领域中得到了广
泛的应用。该技术通过利用磁场对溅射过程的调控，显著提高了镀膜
的效率和质量，成为现代镀膜工艺中的佼佼者。
磁控溅射镀膜技术的基本原理是在高真空环境下，利用电场加速
的离子轰击靶表面，使靶原子或分子从表面逸出并沉积在基
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