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蓝宝石图形化衬底表面图形几何参数测定方法标准立项报告

EnglishTitle

StandardizedMeasurementMethodsforGeometricParametersofPatternedSapphireSubstrateSurfaceStructures

摘要

随着Mini/MicroLED技术推动超高清显示时代的到来，蓝宝石图形化衬底（PSS）作为关键衬底材料，其质量一致性及性能可控性对半导体光电器件制造具有重要意义。目前，PSS表面图形结构多样，缺乏统一的几何参数测量与评价标准，导致产业链上下游沟通成本高、产品良率难以系统提升。本报告围绕PSS表面图形几何参数测定方法的标准化需求，系统阐述该标准立项的目的意义、适用范围及主要技术内容。该标准提出基于原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）和自动光学检测设备的多方法集成测量体系，建立图形尺寸、高度、间距、角度、弧边距及反射率等参数的统一测量流程与计算模型，并引入GageRR和KAPPA量测系统分析体系，以提升测量数据的可靠性与可比性。该标准的制定将显著促进PSS产品研发、生产与应用的标准化，推动第三代半导体材料产业的高质量发展。

关键词

蓝宝石图形化衬底（PatternedSapphireSubstrate）；几何参数测量（GeometricParameterMeasurement）；标准化（Standardization）；Micro-LED；氮化镓外延（GaNEpitaxy）；检测方法（TestMethod）；SEMI标准（SEMIStandard）

一、立项目的与意义

随着“超高清”显示时代的来临，在Mini/MicroLED技术的强力推动下，市场对高品质蓝宝石图形化衬底（PSS）的需求持续提升。PSS作为氮化镓（GaN）基LED外延生长的主流衬底，其表面微结构直接影响外延层质量与器件出光效率，属于国家政策明确支持的关键电子材料。在《“十三五”材料领域科技创新专项规划》《战略性新兴产业重点产品和服务指导目录》及《中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和2035年远景目标纲要》等多项国家级规划中，均明确提出应重点发展图形化蓝宝石衬底相关材料与技术。

PSS是在蓝宝石抛光衬底上通过黄光制程或纳米压印图形掩膜工艺，并结合等离子体干法刻蚀等图形化技术制备的具有微纳米周期结构的功能衬底。其主流图形形貌为六角密排圆锥形结构，可通过调控图形几何参数有效缓解外延应力、降低位错密度、提升光提取效率，从而显著改善LED的光电性能。

目前市场上PSS产品尺寸以2~6英寸为主，但因工艺和设计差异，其表面图形结构存在较大变异，常见包括半球状、圆锥状和圆孔状等不同形貌。图形参数测量的不统一，导致生产商与用户之间在产品规范、验收标准方面存在较大分歧，增加了供应链中的沟通成本与技术风险。

本标准的制定旨在建立一套科学、可靠、可重复的PSS表面图形几何参数测量方法，统一尺寸、高度、间距、角度、弧边距及反射率等关键参数的检测流程与评价体系，推动PSS产品在不同生产环节和不同企业之间的数据可比性与过程协同性，对提升产品良率、促进行业标准化和国际化具备重要意义。

二、范围与主要技术内容

适用范围

本标准适用于蓝宝石图形化衬底（PSS）表面周期性图形阵列几何参数的测量与表征，主要针对50.8mm（2英寸）、100mm（4英寸）及150mm（6英寸）三种尺寸规格的PSS产品。测量对象包括图形尺寸、高度、间距、侧壁角度、弧边距、表面反射率等特征参数，适用于从研发、生产到质量检验的全流程环节。

主要技术内容

本标准提出以原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）和晶圆自动光学检测设备为核心的多方法协同测量体系。具体包括：

1.测量点布局规范：明确不同尺寸PSS衬底上测量点的数量、分布位置及点间距要求，配备相应图示指导实际操作。

2.图形参数计算方法：规定关键几何参数（如图形高度、直径、间距、锥角等）的计算公式与数据处理流程。

3.有效区域识别与反射率测量：确立晶圆有效区域的定义与计算方法，集成反射光谱测量技术完成表面光学性能评估。

4.测量系统分析：引入GageRR（量具重复性与再现性分析）及KAPPA一致性评价体系，对测量设备的稳定性、操作人员一致性及方法可靠性进行系统验证与管理。

5.数据输出与报告模板：统一测量结果输出格式，确保数据记录完整、格式规范、便于比对与归档。

通过上述技术内容的系统整合，本标准在保证测量结果准确性与重复性的前提下，显著提升PSS产品在全产业链中的标准化程度和产品质量可控性。

三、介绍主要修订单位：××半导