硅二氧化硅表面自组装单分子膜：从基础到应用的深度探究.docx

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2025-09-01 发布于上海
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硅二氧化硅表面自组装单分子膜：从基础到应用的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

硅二氧化硅（SiO_2）作为一种在自然界广泛存在且应用极为广泛的无机化合物，在现代材料领域占据着举足轻重的地位。从地壳中含量丰富的石英矿物，到半导体芯片制造中不可或缺的关键材料，硅二氧化硅以其多样的物理化学性质和独特的结构特点，展现出巨大的应用价值。其化学性质相对稳定，具有良好的耐高温、耐腐蚀性能，同时具备优异的绝缘性和光学性能。在半导体工业中，硅基材料是制造集成电路、晶体管等核心电子元件的基础，而二氧化硅则常用于制作绝缘层、掩膜材料等，对保障芯片的性能和稳定性起着关键作用。在光通信领域，二氧化硅光纤