原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
电机工程及应用电子技术系
市美精微光电
关于合作研制“光刻掩膜版自动光学检测仪”
（MASK-AOI）
甲方:市美精微光电
乙方:电机工程及应用电子技术系
经甲乙双方友好协商,一致达成如下协议:
1.为了提高企业的科技创新能力，利用乙方强大的技术力量和技术
作研制“光刻掩膜版自动光学检测仪”（下面简称“MASK-AOI”）
作为联合首项重大科研课题；
2.MASK-AOI联合研究小组由联合主持。甲乙双方均承
诺会选派优秀的专家学者和技术专才参加该联合研究小组的工
作；
3.MASK-AOI的科研课题和研究工作具体在如下三个方面：
（1）光刻掩膜版的精密扫描和图象技术
1-1调研选定适用于光刻掩膜版（MASK）透射式精密扫描
的目前国际上新型的5000-8000DPI的精密扫描仪；
1-2扫描精度必须保证最小扫描点6umx6um要求；
DepartmentofElectricalEngineeringandApplied
ElectronicTechnology,TsinghuaUniversity
ShenzhenMeijingweiOptoelectronicsCo.,Ltd.
Regardingthecooperationinthedevelopmentofthe
LensoringMaskAutomaticOpticalDetector
(MASK-AOI)protocol
PartyA:ShenzhenMeijingweiOptoelectronicsCo.,Ltd.
PartyB:DepartmentofElectricalEngineeringand
AppliedElectronicsTechnology,TsinghuaUniversity
AfterfriendlynegotiationsweenPartyAandB,the
followingagreementwasreached:
1.Inordertoimprovethecompanysscientificandtechnologicalinnovation
capabilities,usePartyBsstrongtechnicalstrengthandtechnicalsupportto
promotetheindustrializationofscientificresearchresults,PartyAandParty
BunanimouslyagreedtojointlyestablishtheMeijingMicroJointResearch
Inst
文档评论（0）