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PECVD真空镀膜设备生产制造项目可行性研究报告.docx

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    PECVD真空镀膜设备生产制造项目可行性研究报告

    天津枫叶咨询有限公司

    第一章项目总论

    项目名称及建设性质

    项目名称

    PECVD真空镀膜设备生产制造项目

    项目建设性质

    本项目属于新建高端装备制造项目，专注于PECVD（等离子体增强化学气相沉积）真空镀膜设备的研发、生产与销售，旨在填补国内高端PECVD真空镀膜设备领域的部分技术空白，提升我国在半导体、显示面板、光伏等行业关键装备的自主化水平。

    项目占地及用地指标

    本项目规划总用地面积52000.36平方米（折合约78.00亩），建筑物基底占地面积37440.26平方米；规划总建筑面积61209.68平方米，其中生产车间面积42800.52平

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