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半导体光刻光源技术创新2025年助力高性能计算芯片制造模板范文
一、半导体光刻光源技术创新2025年助力高性能计算芯片制造
1.1技术创新
1.1.1极紫外(EUV)光刻技术
1.1.2光源研发
1.1.3光刻机研发
1.2市场前景
1.2.1全球半导体市场持续增长
1.2.2EUV光刻技术市场潜力巨大
1.2.3我国半导体产业快速发展
1.3应用领域
1.3.1高性能计算芯片
1.3.2人工智能芯片
1.3.35G通信芯片
二、半导体光刻光源技术在全球半导体产业中的地位与挑战
2.1全球半导体产业对光刻技术的依赖
2.1.1提升芯片性能
2.1.2降低制造成本
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