第五章透射电子显微镜.pptVIP

5.1电子显微镜简介;为了进一步表征仪器的特点，有以加速电压区分的，如：超高压(1MV)和中等电压(200-500kV)透射电镜、低电压(～1kV)扫描电镜；;5.2透射电子显微镜

TransmissionElectronmicroscope-TEM;;入射电子束（照明束）主要有两种形式

??平行束：透射电镜成像及衍射

??会聚束：扫描透射电镜成像、微分析及微衍射。;光学显微镜和电镜光路图比较;;一.透射电镜工作原理及构造;K=k–k0;(2)结构;通常TEM由电子光学系统、电源系统、真空系统、循环冷却系统和控制系统组成，其中电子光学系统是电镜的主要组成部分。;;;电子枪是发射电子的照明光源。

聚光镜是把电子枪发射出来的电子会聚而成的交叉点，并进一步扩束成平等光束后照射到样品上。

照明系统的作用就是提供一束亮度高、照明孔径角小、平行度好、束流稳定的照明源。;;

;;;物镜的分辨率主要取决于极靴的形状和加工的精度。;照像装置;;照像装置;照像装置;二.显微成像及衍射花样成像原理：;调整物镜线圈电流，使中间镜的物平面和物镜的像平面重合，则可得到放大的电子显微图像。;三、透射电镜的功能及发展;增加附件后，其功能可以从原来的样品内部组织形貌观察（TEM）、原位的电子衍射分析（Diff），发展到还可以进行原位的成分分析（能谱仪EDS、特征能量损失谱EELS）、表面形貌观察（二次电子像SED、背散射电子像BED）和透射扫描像（STEM）。;利用电子束与固体样品相互作用产生的物理信号开发的多种分析附件，大大拓展了透射电子显微镜的功能。由此产生了透射电子显微镜的一个分支——分析型透射电子显微镜。;提高透射电子显微镜分辨率的关键在于物镜制造和上下极靴之间的间隙，舍弃各种分析附件可以使透射电子显微镜的分辨率进一步提高，由此产生了透射电子显微镜的另一个分支——高分辨透射电子显微镜（HREM）。;透射电子显微镜的发展还表现在计算机技术和微电子技术的应用。计算机技术和微电子技术的应用使透射电子显微镜的控制变得简单，自动化程度大大提高，整机性能提高。;;;;;;;;;;复型的制备;复型的制备;复型技术在金属???料分析中的应用;复型技术在金属材料分析中的应用;Process1:TA=850?C,byair

;复型技术在金属材料分析中的应用;Process2:TA=600?C,byair;复型技术在金属材料分析中的应用;直接样品的制备－粉末样品制备;直接样品的制备－晶体薄膜样品的制备;直接样品的制备－晶体薄膜样品的制备;现在是51页\一共有117页\编辑于星期四;铸态AZ31＋1.0%RE镁合金组织

（a)光学显微组织(b)针状稀土相(TEM);铸态AZ31＋1.0%RE+1.0%Sb镁合金中球化相的TEM形貌（a）及能谱(b);直接样品的制备－晶体薄膜样品的制备;现在是55页\一共有117页\编辑于星期四;直接样品的制备－晶体薄膜样品的制备;直接样品的制备－晶体薄膜样品的制备;六、成像衬度－TEM衬度像;*;铁红金圈结晶釉的表面形貌;*;对薄晶体;*明场像：;;SrTiO3陶瓷

TEM暗场像;中B位有序区明场像;一般来说，观察形貌用明场像，因为成像衬度好（尤其是加了合适的光阑），形变小。其主要表现为厚度衬度，对厚度敏感。;①等厚条纹:厚度不同引起(孔洞、边缘);②等倾干涉条纹：;必须指出：

①只有晶体试样形成的衍衬像才存明场像与暗场像之分，其亮度是明暗反转的，即在明场下是亮线，在暗场下则为暗线，其条件是，此暗线确实是所使用的操作反射斑引起的。

②它不是表面形貌的直观反映，是入射电子束与晶体试样之间相互作用后的反映。;七、电子衍射;七、电子衍射;;七、电子衍射;七、电子衍射;七、电子衍射;七、电子衍射;七、电子衍射;七、电子衍射;七、电子衍射;七、电子衍射;a);标定的目的：

;*;图3.9Al3Ni型正交相Al74.8Fe1.5Ni23.7的选区电子衍射花样;PMN-PT陶瓷

晶粒的ED花样;5.电子衍射花样特征分类;l?非晶体（玻璃）：衍射荤环;6.电子衍射谱的标定;必须是针对照相底片的标定

标定前我们需要了解的信息：

加速电压U,用于计算?

底片上读到的信息放大倍数和相机长度L

相机常数L?（协调正、倒空间的比例常数）

内标法修正相机常数（选一个已知的标准物质）

电子衍射基本公式L?=Rd;;由结晶学知识，已知由两个不共方向的倒易矢量即可确定一个倒易点阵，;由：;(4)任意确定某衍射点1的(hkl)；;6.电子衍