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《GB/T34481-2017低位错密度锗单晶片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法》(2025年)实施指南
目录标准出台背景与核心定位:为何低位错密度锗单晶片EPD测量需专属国标?专家视角拆解核心价值测量原理与科学依据:腐蚀坑形成的物理化学机制是什么?为何能精准反映锗单晶片质量?腐蚀液配置与使用规范:不同类型腐蚀液配方有何讲究?浓度与温度控制对结果有多大影响?显微观察与图像分析:选用何种显微镜?如何计数腐蚀坑才能保证数据准确性?方法验证与质量控制:如何验证测量方法的有效性?日常检测中怎样保证数据可靠性?术语与定义深度剖析:EPD、低位错密度等关键概念如何界定?与行业惯例有何差异?试
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