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金相试样制备试题及答案
一、单选题(每题1分,共20分)
1.金相试样制备过程中,首先进行的步骤是()
A.研磨B.抛光C.镶嵌D.腐蚀
【答案】C
【解析】金相试样制备的顺序为:镶嵌→研磨→抛光→腐蚀,故首先进行镶嵌。
2.用于金相试样研磨的磨料粒度应选择()
A.较粗B.较细C.任意粒度D.无粒度要求
【答案】B
【解析】研磨阶段需要使用较细的磨料以减少表面划痕。
3.金相试样抛光的主要目的是()
A.显现组织B.去除磨痕C.增加表面亮度D.改变组织形态
【答案】B
【解析】抛光的主要目的是去除研磨产生的磨痕,使表面光滑。
4.下列哪种物质常用于金相试样的化学腐蚀?()
A.硝酸B.硫酸C.酒精D.氢氧化钠
【答案】A
【解析】硝酸常用于金相试样的化学腐蚀,形成腐蚀坑以显现组织。
5.金相试样镶嵌常用的材料是()
A.树脂B.陶瓷C.金属D.塑料
【答案】A
【解析】金相试样镶嵌常用树脂材料,便于加工且与试样匹配性好。
6.金相试样的研磨通常在()上进行
A.抛光机B.电解槽C.显微镜D.砂轮机
【答案】D
【解析】研磨需要在砂轮机上完成,利用砂轮的磨削作用去除材料。
7.金相试样抛光时,常用的抛光剂是()
A.金刚石B.氧化铝C.硅藻土D.石墨
【答案】B
【解析】氧化铝是常用的抛光剂,具有较好的抛光效果。
8.金相试样腐蚀时,温度一般控制在()
A.常温B.50℃C.80℃D.100℃
【答案】C
【解析】腐蚀时温度通常控制在80℃左右,以提高腐蚀速度。
9.金相试样研磨时,应使用()进行
A.干磨B.湿磨C.干湿交替D.任意方式
【答案】B
【解析】研磨时应使用湿磨,以减少粉尘飞扬并提高研磨效果。
10.金相试样抛光后,表面应呈现()
A.镜面B.粗糙面C.麻点D.划痕
【答案】A
【解析】抛光后表面应呈现镜面效果,无划痕和磨痕。
11.金相试样镶嵌时,应确保()
A.镶嵌块平整B.镶嵌块粗糙C.镶嵌块有孔隙D.镶嵌块无孔隙
【答案】A
【解析】镶嵌块应平整,以保证试样表面研磨和抛光时不受影响。
12.金相试样腐蚀时,溶液的浓度一般控制在()
A.10%B.20%C.30%D.50%
【答案】C
【解析】腐蚀溶液浓度通常控制在30%左右,以避免过度腐蚀。
13.金相试样的研磨速度一般控制在()
A.500转/分钟B.1000转/分钟C.1500转/分钟D.2000转/分钟
【答案】B
【解析】研磨速度通常控制在1000转/分钟,以保证研磨效果。
14.金相试样抛光时,应使用()进行
A.抛光布B.抛光膏C.抛光液D.抛光蜡
【答案】B
【解析】抛光时通常使用抛光膏,以提供良好的抛光效果。
15.金相试样腐蚀后,应立即()
A.清洗B.干燥C.保存D.观察
【答案】A
【解析】腐蚀后应立即清洗,以去除残留的腐蚀液。
16.金相试样研磨时,应使用()进行
A.粗磨B.细磨C.精磨D.干磨
【答案】A
【解析】研磨时通常使用粗磨,以快速去除材料。
17.金相试样抛光时,应使用()进行
A.机械抛光B.化学抛光C.电解抛光D.电化学抛光
【答案】A
【解析】抛光时通常使用机械抛光,通过物理作用去除磨痕。
18.金相试样腐蚀时,溶液的pH值一般控制在()
A.1-2B.3-4C.5-6D.7-8
【答案】B
【解析】腐蚀溶液的pH值通常控制在3-4,以保证腐蚀效果。
19.金相试样研磨时,应使用()进行
A.不同粒度的磨纸B.相同粒度的磨纸C.无磨纸D.任意材料
【答案】A
【解析】研磨时应使用不同粒度的磨纸,从粗到细逐步进行。
20.金相试样抛光后,应()
A.立即腐蚀B.立即观察C.清洗干燥D.立即保存
【答案】C
【解析】抛光后应立即清洗干燥,以去除残留的抛光剂。
二、多选题(每题4分,共20分)
1.金相试样制备过程中,以下哪些步骤是必要的?()
A.镶嵌B.研磨C.抛光D.腐蚀E.清洗
【答案】A、B、C、D、E
【解析】金相试样制备的必要步骤包括镶嵌、研磨、抛光、腐蚀和清洗。
2.金相试样研磨时,应注意哪些事项?()
A.使用湿磨B.使用不同粒度的磨纸C.施加适当的压力D.保持一定的速度E.随意研磨
【答案】A、B、C、D
【解析】研磨时应使用湿磨、不同粒度的磨纸、适当的压力和速度,不可随意研磨。
3.金相试样抛光时,常用的抛光方法有哪些?()
A.机械抛光B.化学抛光C.电解抛光D.电化学抛光E.干法抛光
【答案】A、B、C
【解析】金相试样抛光常用的方法包括机械抛光、化学抛光和电解抛光。
4.金相试样腐蚀时,应注意哪些事项?()
A.控制温度B.控制时间C.控制浓度D.控制速度E.随意腐蚀
【答案】A、B、C
【解析】腐蚀时应控制温度、时间和浓度,不可随意腐蚀。
5.金相试样制备的目的有哪些?()
A.显现组织
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