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一、半导体光刻光源技术创新助力5G通信芯片制造突破

1.1背景与意义

1.1.15G通信技术的发展对芯片制造提出了更高的要求

1.1.2光刻技术在芯片制造中扮演着重要角色

1.1.3半导体光刻光源技术的创新有助于推动5G通信芯片制造突破

1.2技术现状与挑战

1.2.1目前，半导体光刻光源技术主要包括紫外光（UV）光源、极紫外光（EUV）光源和近紫外光（NIR）光源等

1.2.2然而，EUV光源技术面临着诸多挑战

1.2.3此外，随着5G通信技术的发展，对光刻光源的波长、亮度和均匀性等性能要求越来越高，进一步加大了半导体光