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2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析.docx

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    2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析

    一、2025年前沿3nmGAAFET工艺技术路线图及研发策略分析

    1.1技术背景

    1.1.1技术背景

    1.1.2发展现状

    1.1.3未来趋势

    1.2技术路线

    1.2.1材料

    1.2.2设备

    1.2.3工艺

    1.2.4封装

    1.3研发策略

    1.3.1产学研合作

    1.3.2人才培养

    1.3.3政策支持

    二、材料创新与挑战

    2.1材料创新

    2.1.1高迁移率硅材料

    2.1.2低介电常数材料

    2.1.3高热导率材料

    2.2材料挑战

    2.2.1材料稳定性

    2.2.2材料集成与加工

    2.2.3环境与成

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