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QLED无损光刻交联空穴传输层和发光层的像素化工艺研究.pdf

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    QLED无损光刻交联空穴传输层和发光层的像素化工艺研究

    摘要

    近年来，微型发光二极管（Micro-LED）、混合现实（XR）等显示技术的快速发

    展，对高亮度、高像素密度、全彩的量子点电致发光器件（Quantum-dotLight-Emitting

    Diodes,简称QLEDs）提出了更高的要求。光刻和喷墨打印是目前实现高分辨的量子

    点像素阵列的两种最有效的途径。其中，光刻工艺具有可同时制造数百万个像素单元

    和可进行厚度精确调控等独特优势，越来越受到学术界和产业界的关注。然而，目前

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