天津大学《半导体物理学》课件-第2章 半导体中杂质和缺陷能级.pdfVIP

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  • 2025-10-22 发布于北京
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天津大学《半导体物理学》课件-第2章 半导体中杂质和缺陷能级.pdf

半导体物理

ThePhysicsofSemiconductors

主讲人:聂凯明

天津大学-微电子学院

nkaiming@tju.edu.cn

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第二章半导体中杂质和缺陷能级

本章重点

◼半导体中的杂质能级

◼施主杂质、受主杂质

◼缺陷和位错

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2.1硅锗晶体中的杂质能级

实际晶体与理想晶体的区别

◼原子并不是静止在格点位置上,而是在其平衡位置附近振动;

◼存在杂质;

◼晶格结构存在着各种形式的缺陷:

◼点缺陷(空位,间隙原子)

◼线缺陷(位错)

◼面缺陷(层错,晶粒间界)

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◼极微量的杂质和缺陷,能够对半导体材料的物理性

质和化学性质产生决定性的影响,也严重地影响着

半导体的质量。

例如:在硅晶体中,若以10^5个硅原子中掺入一个杂质原子的

比例掺入硼原子,则硅晶体的导电率在室温下将增加1000倍。

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理论分析认为,杂质和缺陷的存在使得原

本周期性排列的原子所产生的周期性势场

受到破坏,并在禁带中引入了能级,允许

电子在禁带中存在,从而使半导体的性质

发生改变。

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2.1.1替位式杂质、间隙式杂质

◼替位式杂质

◼杂质原子的大小与晶体原子相似

◼III、V族元素在硅、锗中均为替位式杂质

◼间隙式杂质

◼杂质原子小于晶体原子,比如离子锂(半径0.068nm)

◼杂质浓度:单位体积内的杂质原子数

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A:间隙式杂质,B:替位式杂质

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2.1.2施主杂质、施主能级

◼施主(donor)杂质

V族元素在硅、锗中电离时能够释放电子而产生导电电子

并形成正电中心,称此类杂质为施主杂质或n型杂质。

◼施主电离

施主杂质释放电子的过程。

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◼施主能级

被施主杂质束缚的电子的能量状态,记为E,施主电离能

d

量为ΔE=E-E。

Dcd

◼n型半导体(n-typesemiconductor)

依靠导带电子导电的半导体。

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2.1.3受主杂质、受主能级

◼受主(acceptor)杂质

III族元素在硅、锗中电离时能够接受电子而产生导电空穴

并形成负电中心,称此类杂质为受主杂质

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