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真空成分分析及设备工艺测试卷.docx

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    真空成分分析及设备工艺等知识单项选择题试卷

    您的姓名：[填空题]*

    _________________________________

    您的工号：[填空题]*

    _________________________________

    1.TFECVD工艺中，薄膜的沉积是在（）环境下实现的[单选题]*

    A.固体

    B.液体

    C.气体

    D.等离子体(正确答案)

    2.TFECVD工艺1/2形成的产物分别为（）[单选题]*

    A.SiON/SiN(正确答案)

    B.SiON/SiON

    C.SiN/SiN

    D.SiN/SiON

    3.以下哪些是蒸镀机使用的泵（）[单选题]*

    A.干泵

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