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锗掺杂对直拉硅单晶抗快中子辐照性能的影响及机制研究
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今科技飞速发展的时代,半导体器件作为现代电子系统的核心部件,广泛应用于航空航天、核能、医疗等众多领域。然而,这些器件常常面临着各种复杂的辐照环境,如太空中的高能粒子辐射、核反应堆中的中子辐照等。辐照环境会对半导体器件的性能产生严重影响,导致器件性能退化甚至失效,这不仅会影响电子系统的正常运行,还可能引发严重的安全问题。例如,在航空航天领域,卫星中的电子器件受到宇宙射线的辐照,可能会出现数据错误、通信中断等故障,危及卫星的安全运行;在核能领域,核反应堆中的控制设备受到中子辐照,可能会导致控制失效,引发核事
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