高功率激光装置中光学薄膜取样分光技术的关键突破与应用探索.docx

下载文档

0
0
约1.85万字
约 15页
2025-10-26 发布于上海
举报
版权申诉
保障服务

高功率激光装置中光学薄膜取样分光技术的关键突破与应用探索.docx

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。

高功率激光装置中光学薄膜取样分光技术的关键突破与应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

高功率激光装置作为现代科学研究与工业生产中的关键设备，在诸多领域发挥着不可替代的重要作用。在科研领域，尤其是惯性约束核聚变（ICF）研究中，高功率激光装置是实现核聚变点火的核心工具。通过将高功率激光聚焦于靶丸，产生高温高压环境，引发核聚变反应，这对于探索新能源、解决全球能源危机具有重大战略意义。美国国家点火装置（NIF）拥有192束纳秒激光，单脉冲能量达1.8MJ，是目前国际上最大的激光点火装置，其在激光ICF研究中取得了重要突破，如2022年12月率先实现“点火”目标。我国的