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高功率脉冲磁控溅射技术：钛及氧化钛薄膜制备与性能优化研究.docx

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    高功率脉冲磁控溅射技术：钛及氧化钛薄膜制备与性能优化研究

    一、引言

    1.1研究背景与意义

    在材料科学与工程领域，薄膜材料由于其独特的物理、化学和机械性能，在电子、光学、机械、能源等众多行业中得到了广泛应用。从电子器件中的半导体薄膜，到光学元件上的增透膜，再到机械零件表面的耐磨涂层，薄膜性能的优劣直接决定了相关产品的质量与性能。因此，如何制备高性能的薄膜材料一直是材料研究的关键课题。

    高功率脉冲磁控溅射（High-PowerImpulseMagnetronSputtering，HiPIMS）技术作为一种先进的物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）方

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