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《2025年半导体成熟制程国产化技术突破与应用场景》
一、2025年半导体成熟制程国产化技术突破
1.1技术突破
1.1.1光刻技术
1.1.2刻蚀技术
1.1.3离子注入技术
1.1.4清洗技术
1.2应用场景
1.2.15G通信
1.2.2人工智能
1.2.3物联网
1.2.4汽车电子
二、半导体成熟制程国产化技术的关键挑战
2.1技术挑战
2.1.1基础材料研发
2.1.2设备国产化
2.1.3工艺优化
2.2产业链挑战
2.2.1供应链协同
2.2.2人才培养
2.3政策与市场挑战
2.3.1政策支持
2.3.2市场竞争
三、半导体成熟制程国产化
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