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《GB_T 37053-2018氮化镓外延片及衬底片通用规范》专题研究报告.pptx

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    ;目录;;标准制定的时代背景：氮化镓产业爆发催生质量统一需求;;;;;（二）光学性能指标：适配光电器件的发光与吸收要求;外延层厚度采用椭圆偏振仪或台阶仪测试，厚度偏差≤±5%，面内均匀性≤5%。多层外延结构需明确各层厚度及界面平整度，避免因结构不均导致器件性能波动。这是保障器件一致性的核心前提，尤其适用于高频器件。;;位错密度：晶体缺陷的核心评价指标;（二）晶向偏差：影响外延层生长质量的关键因素;（三）晶格常数与均匀性：反映晶体排列有序性的核心参数;;标准将表面缺陷按尺寸分级，如直径5μm的麻点不允许存在，宽度≤1μm、长度≤50μm的划痕每

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