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cvd气相沉积石墨烯cvd气相沉积石墨烯.docxVIP

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  • 2025-11-27 发布于山西
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cvd气相沉积石墨烯cvd气相沉积石墨烯.docx

    cvd气相沉积石墨烯cvd气相沉积石墨烯

    CVD气相沉积是制备高质量石墨烯最主流的方法，核心是在高温、惰性气体氛围下，让碳源气体（如甲烷）在金属基底（如铜、镍）表面分解，碳原子再重组生长成连续的石墨烯薄膜。

    1.核心原理

    高温活化：将金属基底加热到900-1100℃，通入惰性气体（如氩气）排除空气，避免基底氧化。

    碳源分解：通入碳源气体（甲烷、乙炔等），高温下碳源分子裂解成碳原子。

    石墨烯生长：碳原子在金属基底表面吸附、扩散，逐渐形成单原子层的石墨烯薄膜。

    冷却转移：降温后，将石墨烯从金属基底转移到目标衬底（如硅片、石英）上，完成制

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