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氢热处理对硅/锗单晶纳米结构形貌的精准调控与机制探究
一、引言
1.1研究背景与意义
随着信息技术的飞速发展,集成电路技术不断追求更高的性能、更小的尺寸和更低的功耗。纳米结构材料因其独特的物理性质和电学特性,在集成电路领域展现出巨大的应用潜力,成为推动集成电路技术持续进步的关键因素之一。硅(Si)和锗(Ge)作为重要的半导体材料,在纳米结构领域受到了广泛关注。它们的纳米结构,如纳米线、纳米管和纳米薄膜等,具有优异的电学性能,有望为下一代高性能、低功耗的集成电路器件提供核心支持。
在纳米结构的制备和应用过程中,精确控制其形貌是至关重要的。纳米结构的形貌直接影响到材料的电学、光学和力学等性能,进
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