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半导体薄膜制备过程优化建模技术

目录

半导体薄膜制备过程优化建模技术概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3

1.1半导体薄膜的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.2建模技术的应用背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

1.3文章结构．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

半导体薄膜制备工艺．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

2.1胶制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

2.1.1前驱体合成．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

2.1.2汇流层制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

2.1.3射雾沉积．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

2.2物理气相沉积．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

2.2.1真空蒸发．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

2.2.2纸带蒸发．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

2.2.3直流放电等离子体沉积．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

2.3化学气相沉积．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

2.3.1热丝化学气相沉积．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28

2.3.2原子层沉积．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31

2.4溅射镀膜．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32

2.4.1溅射源与靶材选择．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34

2.4.2溅射工艺参数优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36

建模方法选型．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39

3.1仿真分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．44

3.1.1有限元法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．46

3.1.2有限差分法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．47

3.1.3响应面法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52

3.2优化算法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．54

3.2.1遗传算法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．58

3.2.2粒子群优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．60

3.2.3随机搜索法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．61

模型建立与验证．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．63

建模结果分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．64

5.1工艺参数影响分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．66

5.1.1溅射能量对薄膜质量的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．69

5.1.2前驱体浓度对薄膜质量的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．70

5.1.3沉积速率对薄膜质量的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．72

5.2仿真结果与实验结果比较．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．74

结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．81

6.1本文主要工作．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．