高精度光栅式位移测头的创新结构设计与性能优化研究.docx

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2025-11-25 发布于上海
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高精度光栅式位移测头的创新结构设计与性能优化研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代工业生产和科学研究领域，高精度位移测量技术是实现精密制造、质量检测以及自动化控制的关键支撑。随着制造业向高端化、智能化迈进，如半导体制造、航空航天零部件加工、超精密机床等行业，对位移测量精度、分辨率和稳定性的要求达到了前所未有的高度。在半导体芯片制造过程中，芯片的特征尺寸不断缩小，从微米级迈向纳米级，这就要求光刻设备中的位移测量系统具备亚纳米级的测量精度，以确保芯片图案的精确转移，保障芯片性能和良品率。航空航天领域中，飞行器零部件的加工精度直接影响其空气动力学性能和飞行安全，高精度位移测量对于实现复杂曲