层转移技术下特种SOI晶圆的制备工艺与抗辐射性能的深度剖析.docx

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2025-11-26 发布于上海
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层转移技术下特种SOI晶圆的制备工艺与抗辐射性能的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代半导体技术不断发展的进程中，SOI（Silicon-On-Insulator）晶圆凭借其独特的结构和优异的性能，在半导体领域占据着日益重要的地位。SOI晶圆的结构是在顶层硅和背衬底之间引入了一层埋氧化层，这种结构有效地将器件层与体硅隔离开来，使得SOI晶圆具备诸多优势。由于与体硅衬底相互隔离，SOI晶圆能够降低器件的寄生电容，这对于降低功耗至关重要，尤其在当今注重功耗的技术环境下，低功耗是许多电子设备追求的关键性能之一，如便携式电子设备和对功耗敏感的应用场景，SOI晶圆的低功耗特性使