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中微公司公司深度报告：国产刻蚀设备领军者，薄膜业务蓄势待发.pdf

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    正文目录

    1.深耕半导体高端装备，铸就平台化发展格局6

    1.1.立足于刻蚀与MOCVD设备，开拓全面技术创新6

    1.2.卓越团队引领，引领长远发展8

    1.3.业绩增长亮眼，技术筑基长远9

    2.CCP刻蚀设备行业领先，覆盖先进制程需求13

    2.1.刻蚀工艺支撑集成电路制造核心环节13

    2.2.制程演进协同三维堆叠，刻蚀设备需求激增14

    2.3.CCP刻蚀技术领先，ICP刻蚀成长可期16

    3.薄膜设备稳步推进，外延应用加速延伸20

    3.1.

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