《GB_T 41153-2021碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》专题研究报告.pptx

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;目录;;第三代半导体浪潮下,碳化硅单晶的杂质控制为何成“生死线”?;(二)标准出台前的检测乱象:为何传统方法难以满足碳化硅质控需求?;(三)核心价值凸显:GB/T41153-2021如何重塑碳化硅产业的质控逻辑?;;需求驱动:碳化硅产业爆发期,标准为何成为“急行军”?;(二)研制主体协同:产学研用如何打通标准落地“最后一公里”?;(三)关键研制节点:从草案到发布,标准如何实现“科学严谨”?;;SIMS技术本质:为何能成

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