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《有机发光二极管显示用正胶显影液》(征求意见稿)
编制说明
工作简况
任务来源
在有机发光二极管显示(下称OLED显示)关键生产步骤——光刻工艺中,显影工艺为每一道光刻工艺的关键制程。显影工艺是否完美实现,不发生不显、过显或产生Mura,光刻胶残留等情况,是决定OLED显示最终良率的主要因素之一。当前光刻胶显影过程主要采用湿法化学工艺,该工艺中参与反应的关键组分为正胶显影液。在碱性显影液种类中,四甲基氢氧化铵(下称TMAH)显影液因其不含有金属离子,反应后组分易水洗易除去等优点,广泛使用于OLED显示的显影过程中。OLED显示面板产能的不断扩张,导致相关湿化学品,尤其是OL
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