TCEMIA-半导体单晶硅生长用石英坩埚生产规范.pdfVIP

ICS**.***

F12

团体标准

T/CEMIA***－2020

半导体单晶硅生长用石英坩埚生产规范

Quartzcruciblemanufacturingpracticesforsemiconductormonosilicongrowth

（征求意见稿）

20××-××-××发布20××-××-××实施

中国电子材料行业协会发布

T/CEMIA000－2020

前言

本文件按照GB/T1.1-2020给出的规则起草。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利，本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。

本文件由中国电子材料行业协会提出。

本文件由中国电子材料行业协会标准化部归口。

本文件主要起草单位：锦州佑鑫石英科技有限公司，内蒙古欧晶科技股份有限公司，江西中昱新材

料科技有限公司

本文件主要起草人：

本文件参与起草单位：

1

T/CEMIA000－2020

半导体单晶硅生长用石英坩埚生产规范

1范围

本文件确立了半导体单晶硅生长用石英坩埚从业人员、生产设备、主要原辅材料、生产工艺、作业

环境及产品质量管控的程序和总体原则。

本文件适用于半导体单晶硅生长用石英坩埚生产过程。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB8978污水综合排放标准

GB12348工业企业厂界环境噪声排放标准

GB16297大气污染物综合排放标准

GB18597危险废物贮存污染控制标准

GB18599一般工业固体废物贮存、处置场污染控制标准

GB50034建筑照明设计标准

GB50073洁净厂房设计规范

GBZ2.1工作场所有害因素职业接触限值第1部分：化学有害因素

GBZ188职业健康监护技术规范

GBZ/T189.8工作场所物理因素测量第8部分：噪声

GBZ1-2010工业企业设计卫生标准第6部分：工作场所基本卫生要求

JC/T2205-2014石英玻璃术语

3术语和定义

JC/T2205-2014《石英玻璃术语》、T/CEMIA005-2018《光伏单晶硅生长用石英坩埚生产规范》界

定的以及下列术语和定义适用于本文件。

3.1电弧熔制electricarcfusion

利用高温电弧熔融石英砂原料的过程。

[来源：T/CEMIA005-2018，3.1，有修改]

3.2外表面处理outersurfacetreatment

利用研磨器具或外力冲击作用去除石英坩埚外表面未完全熔融石英砂的过程。

[来源：T/CEMIA005-2018，3.2]

3.3切边倒棱cuttingandchamfering

2

T/CEMIA000－2020

利用切割工具对石英坩