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探索石墨烯/NiO界面:RRAM阻变特性与机制解析
一、引言
1.1研究背景与意义
随着信息技术的迅猛发展,对数据存储的需求呈现出爆发式增长,存储器技术的革新成为推动信息产业进步的关键因素。在众多新型存储器中,阻变随机存取存储器(RRAM)以其独特的优势脱颖而出,被视为最具潜力的下一代非易失性存储器技术之一。RRAM具有结构简单、存储密度高、读写速度快、功耗低以及与传统互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺兼容性良好等特点,这些优势使其在大数据存储、人工智能、物联网等领域展现出巨大的应用潜力。
在RRAM的研究中,寻找合适的阻变材料以及优化器件结构是提升其性能的核心。氧化镍(NiO)作为
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