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RF-PECVD法在多元基底制备DLC膜的实验及性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

类金刚石（DLC）膜作为一种非晶态碳膜，因碳原子间独特的共价键合方式，拥有sp2和sp3两种杂化键，使其兼具金刚石和石墨的优异特性。从性能上看，DLC膜具有高硬度，部分DLC膜硬度可达20-80GPa，接近天然钻石，在耐磨涂层领域表现卓越；其低摩擦系数一般处于0.1-0.2之间，能有效减少机械部件间的磨损与能量损耗，适用于运动部件；化学稳定性良好，具备耐酸、碱、盐腐蚀的能力，可在恶劣化学环境中保持稳定；在红外光学领域，特别是8-14μm波段，DLC膜仍能保持高透光率，如部分DLC膜在此波段透过率可达88%以上，这一特性使其在红外热成像镜头、激光光学系统等光学设备中得到广泛应用；此外，DLC膜还具有良好的生物相容性，可用于医疗设备，如内窥镜、手术器械等，降低器械使用过程中的生物反应。

目前，制备DLC膜的方法众多，包括物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）等。射频等离子体增强化学气相沉积（rf-PECVD）方法在制备DLC膜时优势显著。与直流（DC-PECVD）法相比，rf-PECVD有效解决了沉积绝缘薄膜时表面积累大量电荷阻碍薄膜生长、降低沉积速率与薄膜厚度的问题，提高了沉积速度。相较于感应圈式RF-PECVD，平行板电容耦合式的rf-PECVD沉积速率高，膜层致密均匀，稳定性好，能制备出高质量的DLC膜。

在不同基底上制备DLC膜具有重要研究意义。不同基底材料特性各异，如不锈钢具有良好的耐腐蚀性和机械强度，模具钢Crl2钢硬度高、耐磨性较好，树脂材料PMMA质轻、易加工且光学性能良好。将DLC膜沉积在这些不同基底上，能使基底材料在保留自身原有特性的基础上，进一步提升表面性能，实现材料性能的优化组合，拓展材料在更多领域的应用。例如，在不锈钢基底上制备DLC膜，可进一步增强其表面的耐磨性和耐腐蚀性，使其在化工、食品加工等对材料表面性能要求较高的领域得到更广泛应用；在模具钢Crl2钢上沉积DLC膜，能进一步提高模具的使用寿命和成型精度；在树脂材料PMMA上制备DLC膜，可提升其硬度和耐磨性，使其在光学镜片等领域的应用性能得到提升。

1.2国内外研究现状

国外在利用rf-PECVD方法制备DLC膜方面开展了大量研究。一些研究关注在金属基底上制备DLC膜，通过优化rf-PECVD工艺参数，如射频功率、气体流量、沉积时间等，探索制备出高硬度、低摩擦系数且与基底结合力良好的DLC膜的条件。例如，有研究通过精确控制射频功率在一定范围内变化，发现随着射频功率的增加，DLC膜中sp3键含量先增加后减少，当射频功率达到某一特定值时，DLC膜的硬度和耐磨性达到最佳。在不同基底研究方面，针对陶瓷基底，研究人员探索如何改善DLC膜与陶瓷基底的界面结合，通过在基底表面进行预处理或引入过渡层等方式，提高膜基结合强度，以满足陶瓷材料在高温、耐磨等特殊应用场景下对表面性能的需求。

国内在该领域也取得了丰硕成果。众多科研团队对rf-PECVD制备DLC膜的工艺进行深入研究，尝试不同的气源组合和工艺参数调控，以获得性能优良的DLC膜。例如，有研究以CH?和Ar为气源，通过调整两者的流量比例，研究对DLC膜结构和性能的影响，发现合适的气源比例能有效提高DLC膜的质量。在不同基底应用方面，针对树脂材料基底，研究人员致力于解决DLC膜与树脂基底因热膨胀系数差异较大导致的结合力问题，通过采用等离子体预处理树脂基底表面、优化沉积工艺等方法，提高DLC膜在树脂基底上的附着力和稳定性，拓展DLC膜-树脂复合材料在光学、生物医学等领域的应用。

然而，目前研究仍存在一些不足和待解决问题。在不同基底上制备DLC膜时，膜基结合力的提升仍是一个关键挑战。尽管采取了一些措施如引入过渡层、对基底进行预处理等，但对于一些特殊基底材料，如何进一步提高膜基结合力，使其在复杂工况下长期稳定服役，仍有待深入研究。此外，DLC膜的制备工艺复杂，成本较高，大规模工业化生产存在一定困难。在保证DLC膜性能的前提下，如何简化制备工艺、降低生产成本，以促进其更广泛的应用，也是当前需要解决的问题。不同工艺参数对DLC膜微观结构和性能的影响机制尚未完全明确，进一步深入研究这些影响机制，有助于实现对DLC膜性能的精准调控。

1.3研究内容与方法

本研究以不锈钢、模具钢Crl2钢、树脂材料PMMA等为基底材料，采用rf-PECVD方法制备DLC膜。运用扫描电子显微镜