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《热加工工艺》2020年4月第49卷第8期

基于分子动力学模拟的TiAl涂层的阻尼性能研究

王贺权，张馨予

(沈阳航空航天大学机电工程学院，辽宁沈阳110136)

摘要：利用MaterialsStudio软件建立了具有位错缺陷的单晶TiAl涂层模型。采用LAMMPS分子动力学软件在

700.800.900K下对含有位错缺陷的单晶TiAl涂层进行模拟，得到各温度下模型的应力-应变曲线及模型的微观结构

变化。通过模型的应力-应变曲线分析了各温度下模型的阻尼性能。由微观结构变化，进一步探讨了温度对含有位错缺

陷涂层阻尼性能的影响。结果表明，800K下TiAl涂层的阻尼性能最好。

关键词：TiAl合金；分子动力学；位错缺陷；阻尼性能

DOI:10.14158/j.cnki・1001-3814.

中图分类号：TG139+.8文献标识码：A文章编号：1001-3814(2020)8-0095-04

StudyonDampingPropertiesofTiAlCoatings

BasedonMoleculaDynamicsSimulation

WANGHequan,ZHANGXinyu

(SchoolofMechanicalandElectricalEngineering,ShenyangUniversityofAeronauticsandAstronautics,Shenyang110136,

China)

Abstract:Asingle-crystalTiAlcoatingmodelwithdislocationdefectswasestablishedusingMaterialsStudiosoftware.

Thesingle-crystalTiAlcoatingcontainingdislocationdefectswassimulatedbyusingLAMMPSmoleculardynamics

softwareat700K,800Kand900K.Thestress-straincurveofthemodelatdifferenttemperaturesandthechangeofthe

microstructureofthemodelatdifferenttemperatureswereobtained.Thedampingperformanceofthemodelatdifferent

temperatureswasanalyzedbystress-straincurvesofthemodel.Fromthemicrostructurechange,theinfluenceoftemperature

onthedampingperformanceofthecoatingcontainingdislocationdefectswasfurtherlydiscussed.Theresultsshowthatthe

dampingperformanceofTiAlcoatingisbestat800K.

Keywords:TiAlalloy;moleculardynamics;dislocationdefects;dampingproperties

随着人们对航空发动机叶片性能要求的不断等问综合运用了第一原和分子动力学方法研究了

提高，在叶片表面喷镀或沉积高阻尼合金涂层来抑双相TiAl和TijAl中形变诱发的位错滑移微结构演

制外部激励所产生的振动，成为