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大宗气体及CDA管道系统培训

;目录;

1.大宗气体及CDA概述

;大宗气体(BulkGas）:

GeneralNitrogen普通氮气GN2(窒息)

GeneralArgon普通氩气GAr(窒息)

GeneralOxygen普通氧气GO2(助燃）

GeneralHelium普通氦气GHe(窒息、比重小、穿透性强)

GeneralHydrogen普通氢气GH2（易燃易爆）

ProcessNitrogen制程（工艺）氮气PN2(窒息)

ProcessArgon制程（工艺）氩气PAr(窒息)

ProcessOxygen制程（工艺）氧气PO2(助燃）

ProcessHelium制程（工艺）氦气PHe(窒息、比重小、穿透性强)

ProcessHydrogen制程（工艺）氢气PH2（易燃易爆）

由于液晶面板厂制程上的需要，工厂会使用许多种类的气体。一般我们以气体的特性来区分。

可分为特殊气体和一般气体，前者使用量较小，如SiH4，NF3等；后者使用量较大，如N2等。因而使用量较大的气体

我们称之为“大宗气体”，即BulkGas。

标★为G8.6项目所包含气体种类☆为未包含，其中H2因为易燃易爆的特性，归为特气范围。

;1.大宗气体及CDA概述;1.大宗气体及CDA概述;

2.大宗气体与CDA系统概述

;大宗气体系统

CDA系统

P1P2包;

G-GAS在经过专业纯化器，纯化得到P-GAS.纯化间设置在4B栋东北角。

（除H2，H2纯化在大宗气站内完成）;空压机房：;相关的名词解释

桥架或地下沟渠:

气体管路的架装方式：生产厂房与气站之间均会设有安全区隔，管路输送系统从气站拉到生产厂房时，须经过

Tunnel(地下管沟)或Trench(地面or高架管桥).

;相关的名词解释

气体纯化间及气体纯化系统:

用来放置纯化器（Purifier），纯化器可将GGas精制为PGas以提供高纯度气体供后段制程（工艺）使用.

;相关的名词解释

CQC房间和CQC系统（ContinuouslyQualityControl）亦或??为气体监控系统

实时在线监测气体品质

;相关的名词解释

CQC房间和CQC系统（ContinuouslyQualityControl）亦或称为气体监控系统

实时在线监测气体品质

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主管路，支管路（MainandSub-mainPiping）

GasPiping离开Purifier及PurifierRoom之后，即需要绕行厂区供气至需要的位置，绕行厂区的主要管路(粗略定

义ID最大的那一支)即为MainPipe，其次要分支即为Sub-mainPipe,Sub-mainPipe的配置是工程预计设备区域

安装或扩充的需要，而预留的扩充点，并加装Valve

主管路（Main）支管路(Sub-main);

二次连接管路（Hook-uppiping）

在Tools及P.O.C.点之间所配置的管路称为Hook-up，一般均采用1/4“,3/8＂,1/2＂管

机台和使用点（P.O.U.：PointofUse）

Sub-mainPipe进入各设备区域后，即根据Tools及预留点的需要配置P.O.U.，并加装IsolateValve。