2025 年大学微电子科学与工程(微电子工艺)下学期期末测试卷.docVIP

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  • 2025-12-10 发布于天津
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2025 年大学微电子科学与工程(微电子工艺)下学期期末测试卷.doc

2025年大学微电子科学与工程(微电子工艺)下学期期末测试卷

(考试时间:90分钟满分100分)班级______姓名______

一、选择题(总共10题,每题3分,每题只有一个正确答案,请将正确答案填在括号内)

1.以下哪种光刻技术能够实现更高的分辨率?()

A.紫外光刻

B.极紫外光刻

C.电子束光刻

D.离子束光刻

2.在CMOS工艺中,栅氧化层的作用是()

A.形成源漏区

B.隔离不同器件

C.控制沟道电流

D.作为金属连线的介质

3.化学气相沉积(CVD)过程中,哪种气体用于提供硅源?()

A.氧气

B.氢气

C.硅烷

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