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HotWorkingTechnology2017，Vo1．46，No．4

熔盐电沉积钨镀层研究进展

霍东兴，梁精龙，李慧，谢珊珊，杨字

(华北理工大学冶金与能源学院，河北唐山063009)

摘要：论述了钨金属在AI20rCu铜合金、CuCrZr合金、V．4Cr-4Ti合金、碳纤维复合材料以及低活性钢表面的电

沉积技术。阐述了脉冲参数、时间、基体材料和温度等参数对钨镀层表观及微观结构的影响。最后对电沉积钨金属的发

展方向和前景作出了展望。

关键词：钨；熔盐；电沉积

DOI：10．14158／j．enki．1001-3814．2017．04．007

中图分类号：TG174．4文献标识码：A文章编号：1001．3814(2017)04．0030．03

ResearchProgressofTungstenCoatingPreparedbyMoltenSalts

Electrodeposition

HUODongxing，LIANGJinglong，LIHui，ⅪEShanshan，YANGYu

(CollegeofMetallurgyandEnergy，NorthChinaUniversityofSciencenadTechnoloyg，Tnagshna063009，China)

Abstract：TheelectrodepositiontechnologiesoftungstenmetalonthesurfaceofA12O3-Cucopperalloy，CuCrZralloy，

V．4Cr_4Tialloy，carbonfibercompositematerialnadlowactivesteelwerediscussed．Theeffectsofpulseparameters，time，

substratematerialandtemperatureonthesurfacemicrostructureoftungstencoatingswerediscussed．Atlast，thedevelopment

directionnadprospectofelectrodepositiontungstenmetalwereprospected．

Keywords：tungsten；moltensalts；electrodeposition

钨金属具有高熔点、高硬度、化学稳定性高和较积制备附着良好的钨镀层。VAPavlovskii[呀U用氟化

好的耐高温性能[1J，因此被选为国际热核聚变实验物和氯化物混合熔盐体系，钨离子以WO，的形式加

堆ITERfInternationalThermonuclearExperimental入，在钼基质上获得了钨镀层。马瑞新[11-12]提出在

Reactor)中的面向等离子体材料[2]和偏滤器的表面Na2WOWO．ZnO体系中电沉积钨可在空气气氛下

材料3【]。但是其高脆性、高密度、机械加工性能和焊进行，并且加入ZnO可降低混合熔盐的熔点，提高阴

接性能较差的缺点也大大限制其应用4[]。目前，制备极的电流密度。Nitta[利用Li2WO4-Na2WO4_K2WO4

钨镀层主要有等离子体喷镀[5】、物理气相沉积嘲和化熔盐体系获得了高质量的钨镀层，并通过加入KF来

学气相沉积明，并获得了较好的镀层，但是研究工作改变钨镀层的表面光滑度。

者一直致力于寻求更好的方法。熔盐电沉积法因具

2熔盐电沉积钨研究最新进展

有设备简单、镀层质量好，可在具有复杂形状的产品

表面均匀沉积等优点s【】而受到众多学者青睐。本文