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2025 年大学微电子科学与工程（集成电路基础）期末测试卷.docVIP

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  • 2025-12-10 发布于北京
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2025 年大学微电子科学与工程（集成电路基础）期末测试卷.doc

    2025年大学微电子科学与工程（集成电路基础）期末测试卷

    （考试时间：90分钟满分100分）班级______姓名______

    一、单项选择题（总共10题，每题3分，每题只有一个正确答案，请将正确答案填在括号内）

    1.集成电路制造中，光刻技术的分辨率主要取决于（）

    A.光源波长B.光刻胶厚度C.掩膜版精度D.曝光时间

    2.以下哪种半导体材料是目前集成电路中最常用的（）

    A.硅B.锗C.碳化硅D.氮化镓

    3.集成电路设计中，CMOS工艺的优势不包括（）

    A.低功耗B.高集成度C.速度快D.抗辐射

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