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- 2025-12-10 发布于北京
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2025年大学微电子科学与工程（半导体工艺）期末测试卷
（考试时间：90分钟满分100分）班级______姓名______
一、单项选择题（总共10题，每题3分，每题只有一个正确答案，请将正确答案填写在括号内）
1.以下哪种半导体材料常用于制造高性能集成电路？（）
A.硅
B.锗
C.碳化硅
D.氮化镓
2.在半导体工艺中，光刻的主要作用是（）。
A.定义器件的几何形状
B.掺杂半导体
C.形成金属互连
D.提高半导体的导电性
3.离子注入工艺可以用于（）。
A.改变半导体的电学性能
B.去除半导体表面的杂质
C.提高半导体的光
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