SJ21257-2024离子束溅射镀膜设备通用规范.pptxVIP

离子束溅射镀膜设备通用规范本规范描述了离子束溅射镀膜设备的一般要求,包括结构、性能、安全等方面的技术指标,以保证设备的稳定可靠运行,满足客户的使用需求。ZPbyZhiruiPu

范围适用范围本规范适用于离子束溅射镀膜设备的设计、制造、安装、调试、运行和维护。覆盖内容包括设备的基本结构、主要技术参数、功能要求、安全性、环境要求等各方面的通用规范。适用对象针对离子束溅射镀膜设备的生产制造商、使用单位和相关服务商。

规范性引用文件1国家标准《离子束溅射设备通用技术条件》GB/T29367-20122行业标准《电子材料用离子束溅射设备技术条件》SJ/T10644-20123其他标准《真空技术规范》GB/T3906-2008，《清洁室和相关受控环境》GB/T14069-2017

术语和定义术语本规范中使用的主要术语及其定义,帮助读者理解和掌握本规范的内容。设备指离子束溅射镀膜设备,由真空室、离子源、靶材料、基材夹持系统等组成的整体。膜层指通过离子束溅射工艺在基材表面形成的薄膜层。

4基本结构离子束溅射镀膜设备由若干互连的功能模块组成,包括真空系统、离子源、靶材料仓、基材夹持系统、膜厚监测系统和控制系统等。这些模块紧密协作,共同完成从制真空、离子轰击靶、原子溅射、基材覆膜到膜厚测量的整个镀膜工艺流程。设备的基本结构设计需要满足工艺需求、安全性、环境适应性和可靠性等多方面指标要求。

主要技术参数离子束溅射镀膜设备的主要技术参数包括真空水平、离子电流密度、溅射速率、膜厚一致性、基材尺寸等指标。这些参数直接影响镀膜的效果和质量，需要根据不同的应用场景进行优化设计。以下图表概括了一些关键技术参数的范围。这些关键参数的设计和控制对于确保镀膜质量和性能至关重要。需要根据具体应用需求进行优化调整。

安全性要求高压危险设备应采用符合国家标准的安全防护装置,防止接触高压电源造成人身伤害。个人防护操作人员应配备合适的个人防护装备,如防护服、手套、安全鞋等,保护自身安全。紧急停机设备应设置明显的紧急停机按钮,确保在发生故障时能及时切断电源,避免人员伤害。

安全性要求安全防护设备应配备必要的安全防护装置,如接地保护、紧急停机装置、防触电装置等,确保操作人员和设备的安全。危险源识别制造商应识别设备潜在的危险源,如高压、辐射、高温等,并采取相应的安全防范措施。操作培训制造商应提供详细的操作培训手册,确保操作人员掌握设备的正确使用和安全操作方法。警示标识设备上应设置明显的警示标识,提醒操作人员注意安全,减少事故发生。

9电气要求供电系统设备应采用稳定可靠的供电系统,电源电压和频率应符合设备要求,并有相应的备用电源。同时应具备过压、过流、短路等保护功能。接地系统设备的金属外壳和主要金属部件应可靠接地,以确保人身安全和设备正常运行。接地电阻应符合相关标准要求。电气控制系统设备的电气控制系统应采用先进可靠的PLC或其他工控设备,具备全自动控制、故障自诊断及远程监控等功能。电磁兼容性设备应具有良好的电磁兼容性,确保其在电磁环境中正常工作,不会对周围设备造成干扰。

10真空系统要求1真空室设计真空室采用密封性能良好的结构设计,能够快速抽真空并保持稳定的真空度。2抽气系统性能配备具有高抽气速率和高真空度的抽气系统,满足镀膜工艺所需的真空度要求。3气体入口系统设有精密的气体流量调节系统,能够精准控制反应气体的流量和成分。4真空监测与控制配备多点真空度监测装置,能够实时监控并自动调节真空度,确保镀膜过程的稳定性。

离子束溅射镀膜设备真空系统要求高真空度真空系统应能达到高真空度(10^-6Pa或以下)以保证离子束溅射过程的高效性和膜层质量。快速泵排真空系统应配备高性能的真空泵,能够快速将工作室抽至所需真空度,提高生产效率。稳定性真空系统应具有良好的稳定性,维持工作室内恒定的真空环境,确保镀膜过程的一致性。

12靶材料要求靶材指标靶材需要满足特定的成分、纯度、密度等指标要求,确保制备出高质量的薄膜。表面形貌靶材表面应平整、致密、无缺陷,以确保溅射过程中物料的均匀性和稳定性。结构要求靶材需具有适当的晶体结构和取向,以促进所沉积薄膜的有利取向生长。

12靶材料要求高纯度目标材料离子束溅射镀膜需要使用高纯度的金属靶材料,以确保所沉积的薄膜具有良好的化学组成和性能。均匀致密结构靶材料应具有致密均匀的微观结构,以确保溅射过程中稳定的材料去除速率和膜层的均匀性。多样化靶材选择离子束溅射镀膜设备应能够适应不同种类的靶材,包括金属、合金和陶瓷等,以满足不同薄膜应用需求。

基材夹持系统要求高稳定性基材夹持系统需具备卓越的稳定性,确保在镀膜过程中基材位置保持恒定,以确保膜层厚度和质量一致性。宽范围调节系统应可灵活调节以适应不同尺寸和形状的基材,满足多种生产需求。调节范围应覆盖常见基材