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2025年半导体设备真空系统后道工序配套系统技术报告范文参考
一、2025年半导体设备真空系统后道工序配套系统技术报告
1.1技术背景
1.2技术发展现状
1.2.1真空泵技术
1.2.2真空阀门技术
1.2.3真空管道技术
1.2.4真空控制系统技术
1.3技术发展趋势
1.3.1高效节能
1.3.2智能化
1.3.3定制化
1.3.4绿色环保
二、真空系统后道工序配套系统关键部件及技术分析
2.1真空泵技术分析
2.1.1干式真空泵
2.1.2液环真空泵
2.1.3分子泵
2.2真空阀门技术分析
2.2.1真空蝶阀
2.2.2真空球阀
2.2.3真空电
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